2007-01-17 ■ 作業日誌 作業日誌 08:35、251。 成膜 装置の構造上、基板回転をさせない限りムラができてしまう気がするので、反応性スパッタを試してみる。一度目は薄すぎるようなので、二度目は時間を倍にして2時間デポした。イオン源が熱くなるので気を抜けない。 XRD 薄すぎで、下地のピークが出た。(´・ω・`)<セツナス。 各所にメール 過去のデータから掘り起こしで。